_LM_
27.12.2023, 12:30
https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2023/12/27/1098051/entegris_01.jpg (https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2023/12/27/1098051/entegris_01.jpg)
В ближайшие годы TSMC, Intel и Samsung собираются освоить выпуск чипов по литографическим нормам ангстремного порядка — менее 2 нм, и представители отрасли заявляют, что такой переход нельзя будет осуществить без существенных инноваций в области расходных материалов и химикатов для производства полупроводниковых компонентов. Источник изображения: Entegris
Дальше... (https://mogilew.by/varied/231600-bez-ispolzovaniya-novyh-materialov-perehod-k-bolee-sovremennym-tehprocessam-stal-nevozmozhnym.html)
В ближайшие годы TSMC, Intel и Samsung собираются освоить выпуск чипов по литографическим нормам ангстремного порядка — менее 2 нм, и представители отрасли заявляют, что такой переход нельзя будет осуществить без существенных инноваций в области расходных материалов и химикатов для производства полупроводниковых компонентов. Источник изображения: Entegris
Дальше... (https://mogilew.by/varied/231600-bez-ispolzovaniya-novyh-materialov-perehod-k-bolee-sovremennym-tehprocessam-stal-nevozmozhnym.html)