ASML разогнала EUV до киловатта — производительность сканеров вырастет на 50 % через несколько лет
 

[CENTER][URL="https://cdn.3dnews.ru/assets/external/illustrations/2026/02/23/1137295/asml.png"][IMG]https://cdn.3dnews.ru/assets/external/illustrations/2026/02/23/1137295/asml.png[/IMG][/URL][/CENTER]
Мировой лидер в производстве фотолитографических систем (EUV и DUV) для полупроводниковой промышленности компания ASML совершила прорыв в технологии EUV-литографии и планирует увеличить выпуск чипов на 50 % к 2030 году. Инженеры компании смогли повысить мощность источника света до 1000 ватт, что позволит обрабатывать до 330 кремниевых пластин в час и существенно снизить стоимость производства передовых процессоров. Источник изображения: ASML

[url=https://mogilew.by/varied/253241-asml-razognala-euv-do-kilovatta-proizvoditelnost-skanerov-vyrastet-na-50-cherez-neskolko-let.html]Дальше...[/url]