Бельгийцы обнаружили возможность ускорить производительность EUV-сканеров на ровном месте
 

[CENTER][URL="https://cdn.3dnews.ru/assets/external/illustrations/2026/02/27/1137554/euv_cam.jpg"][IMG]https://cdn.3dnews.ru/assets/external/illustrations/2026/02/27/1137554/euv_cam.jpg[/IMG][/URL][/CENTER]
Процесс переноса изображения с маски на фоточувствительный слой на кремниевой пластине при изготовлении чипов балансирует между качеством и скоростью нанесения рисунка. Ускорить его можно либо повысив мощность излучения, с чем есть проблемы, либо повысив чувствительность фоторезиста, с чем тоже всё не очень хорошо. Исследователи из бельгийского Imec нашли неожиданный вариант по ускорению процесса, который до сих пор почему-то не рассматривался.
#imec #euv #производствомикросхем

[url=https://mogilew.by/varied/253338-belgiycy-obnaruzhili-vozmozhnost-uskorit-proizvoditelnost-euv-skanerov-na-rovnom-meste.html]Дальше...[/url]