ASML разогнала EUV до киловатта — производительность сканеров вырастет на 50 % через несколько лет

**_LM_** · 24.02.2026, 13:51

Мировой лидер в производстве фотолитографических систем (EUV и DUV) для полупроводниковой промышленности компания ASML совершила прорыв в технологии EUV-литографии и планирует увеличить выпуск чипов на 50 % к 2030 году. Инженеры компании смогли повысить мощность источника света до 1000 ватт, что позволит обрабатывать до 330 кремниевых пластин в час и существенно снизить стоимость производства передовых процессоров. Источник изображения: ASML

Дальше...

24.02.2026, 13:51	#1
_LM_ ГЛОБАЛЬНЫЙ МОДЕРАТОР Регистрация: 19.02.2017 Сообщений: 72,071	ASML разогнала EUV до киловатта — производительность сканеров вырастет на 50 % через несколько лет Мировой лидер в производстве фотолитографических систем (EUV и DUV) для полупроводниковой промышленности компания ASML совершила прорыв в технологии EUV-литографии и планирует увеличить выпуск чипов на 50 % к 2030 году. Инженеры компании смогли повысить мощность источника света до 1000 ватт, что позволит обрабатывать до 330 кремниевых пластин в час и существенно снизить стоимость производства передовых процессоров. Источник изображения: ASML Дальше...